一直以來我國芯片大多都是依賴進口，很大程度上限制了國內科技的發展，自從經歷了“中興事件”之后，國人清醒的意識到沒有核心技術，一旦遭受到制裁必將面臨癱瘓，“中興事件”為國人敲響了警鐘，認清了落后就要挨打的事實，中國“造芯”已迫在眉睫，只有掌握核心技術才能在激烈的競爭戰爭中站穩腳跟，無懼封殺。
 

　　

　　芯片的制造離不開光刻機，也是芯片制造的最核心設備之一，此前我國沒有制造光刻機的能力，一直以來我國芯片行業受制于人，光刻機也只能依靠進口荷蘭ASML的EVU光刻機來進行生產，時常遭遇國外卡脖子、禁售等個各種不公平制約。
 

　　

　　國內芯片企業大多走的都是集成電路芯片設計路線，在自主生產制造高端芯片這一領域，幾乎是“一片空白”，如今經過7年艱苦攻關，“超分辨光刻裝備研制”通過驗收，中科院光電技術研究所成功制造出世界上第一臺分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備，分辨率高達22納米，可以制造出10納米以下的芯片。
 

　　

　　比起光刻機壟斷巨頭ASML，這臺光刻機采用365納米波長光源，具有紫外光是波長較長、成本低；而且這臺國產光刻機，可以做到22納米的工藝芯片，這世界上這個還是首例；這臺光刻機的出現，以及超分辨光刻裝備項目的順利實施，標志著我國打破國外高科技壟斷、設備禁運的，為我國芯片領域彎道超車提供了可能性。

　　

 

　　同時也結束了我國長達近半個世紀光刻機一直都是被國外的巨頭所壟斷的現狀，如今的中國終于自主研發出了屬于自己的光刻機，打破了國外在高端光刻裝備領域的壟斷，為納米光學加工提供了全新的解決途徑，意味著我國在芯片集成電路芯片制造領域取得新突破，也為新一代信息技術、新材料、生物醫療等先進戰略技術領域，基礎前沿和國防安全提供了核心技術保障。